下载半导体结构及其形成方法的技术资料

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一种半导体结构及其形成方法,其中方法包括:提供第一基底,所述第一基底包括若干相互分立的第一芯片区;在每个第一芯片区内形成第一可剥离结构,所述第一可剥离结构包括第一占位层、以及位于所述第一占位层和第一基底之间的第一可剥离膜;在所述第一可剥离结...
该专利属于芯盟科技有限公司;浙江清华长三角研究院所有,仅供学习研究参考,未经过芯盟科技有限公司;浙江清华长三角研究院授权不得商用。

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