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一种薄膜真空计的固定电极及其制备方法技术
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文档序号:25912005
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本发明属于真空镀膜及微观表面科学技术领域,尤其涉及一种薄膜真空计的固定电极及其制备方法。所述固定电极包括基底,以及依次层叠设置于所述基底表面的缓冲层和导电层;所述缓冲层用于增强导电层和基底的结合力,改善固定电极表面微观形貌,有效的提高了薄膜...
该专利属于上海振太仪表有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海振太仪表有限公司授权不得商用。
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