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本发明公开了一种将样品放置在分析仪的辐射界面中的技术，所述分析仪利用Ｘ光、中子射线、伽玛射线或者粒子束辐射，以对样品进行分析，一个可透过辐射的保护性阻挡件，可使样品与分析仪隔开，并通过阻挡件移动系统相对于辐射界面进行移动。在一个实施例中，所...
该专利属于X射线光学系统公司所有，仅供学习研究参考，未经过X射线光学系统公司授权不得商用。

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