温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型涉及半导体制造领域，特别涉及一种法拉第屏蔽反应腔室。包括腔体顶盖、顶盖密封圈、石英管、电感支撑体、腔体密封圈、放电线圈、腔体密封盖、离子聚焦圈，还包括气体分散盘和线圈支架；电感支撑体套在石英管外，石英管上端通过顶盖密封圈与腔体顶盖...
该专利属于无锡市邑勉微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡市邑勉微电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。