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一种用于探测在束状材料中杂质的设备，包括用于发射可见光的第一光源（２）、用于在红外光谱辐射的第二光源（３）、对从纺织材料（１、１１）反射的可见光敏感并用于产生对应的第一探测器信号的第一探测器（４）以及对在从纺织材料（１、１１）反射的红外光谱...该专利属于第一伊沃尔维克斯私人有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过第一伊沃尔维克斯私人有限公司授权不得商用。
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一种用于探测在束状材料中杂质的设备，包括用于发射可见光的第一光源（２）、用于在红外光谱辐射的第二光源（３）、对从纺织材料（１、１１）反射的可见光敏感并用于产生对应的第一探测器信号的第一探测器（４）以及对在从纺织材料（１、１１）反射的红外光谱...