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本实用新型公开了光源系统，其特征在于，所述光源系统包括：发光阵列；收集透镜，用于对所述发光阵列出射的光束进行收集；光整形装置，设置于所述收集透镜的出射光光路上，所述光整形装置包括用于第一面和与第一面相背的第二面，所述第一面包括多个用于对入射...
该专利属于深圳市绎立锐光科技开发有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市绎立锐光科技开发有限公司授权不得商用。

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