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本发明公开了一种纳米图案的拼接方法和拼接设备，所述拼接方法包括：窗口制作步骤、图形转印步骤、刻蚀步骤、去除步骤和拼接步骤，在窗口制作步骤中，在拼接基板上形成窗口膜层以获得构图基板，对窗口膜层进行构图，形成间隔设置的多个压印窗口，拼接基板包括...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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