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用于获得关于以CVD法沉积的层的信息的方法和设备技术
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下载用于获得关于以CVD法沉积的层的信息的方法和设备的技术资料
文档序号:25696363
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本发明涉及一种用于获得关于由多个依次进行的步骤构成的过程的信息的方法,该过程用于在反应器(14)的过程腔(15)中的衬底(18)上沉积至少一个层、尤其半导体层,其中,以时间序列将用于致动器(2、4、6、9、11、23)的调节数据(SD)、传...
该专利属于艾克斯特朗欧洲公司所有,仅供学习研究参考,未经过艾克斯特朗欧洲公司授权不得商用。
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