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本申请公开了一种离子注入机的剂量量测系统的检测方法,涉及半导体制造领域。该方法包括设置直流电源的电流标准值;在对晶圆进行离子注入之前,通过直流电源按电流标准值向离子注入机的剂量量测系统提供测试电流;通过剂量量测系统测量直流电源提供的测试电流...该专利属于华虹半导体(无锡)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过华虹半导体(无锡)有限公司授权不得商用。
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本申请公开了一种离子注入机的剂量量测系统的检测方法,涉及半导体制造领域。该方法包括设置直流电源的电流标准值;在对晶圆进行离子注入之前,通过直流电源按电流标准值向离子注入机的剂量量测系统提供测试电流;通过剂量量测系统测量直流电源提供的测试电流...