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本发明涉及工件清洗设备技术领域，更具体地说，它涉及一种清洗柱体工件设备，支架设有上料传送带，上料传送带位于进料口处，上料传送带运动方向垂直于所述进料口与所述出料口连线，上料传送带包覆有第一传动辊与第二传动辊；支架设有接料传送带，接料传送带位...
该专利属于贺国霞所有，仅供学习研究参考，未经过贺国霞授权不得商用。

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