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本发明涉及一种高稳定性、长蚀刻寿命的铜蚀刻液。该蚀刻液由双氧水、有机酸、次氧化剂、螯合剂和pH调节剂组成。在蚀刻液中，双氧水和次氧化剂的协同作用克服了蚀刻速率较低、氧化剂消耗过快、蚀刻寿命较短等缺陷；柠檬酸等有机酸可以促进氧化铜在蚀刻液中的...
该专利属于湖北兴福电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖北兴福电子材料有限公司授权不得商用。

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