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沉淀装置制造方法及图纸
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文档序号:25589233
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本实用新型提供了一种沉淀装置,其包括沉淀壳体、填料架、填料层和水平仪,其中:沉淀壳体呈上端敞开的中空结构;填料架能上下移动的设置于沉淀壳体内,填料架包括周侧壁和连接于周侧壁的下端的底壁,周侧壁的上端连接有多个等间隔设置的第一浮筒,底壁上设有...
该专利属于中冶京诚工程技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中冶京诚工程技术有限公司授权不得商用。
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