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本实用新型涉及一种铝基板真空曝光装置的结构，所述盖板底板的下表面设置有垫块，所述垫块的下表面设置有沉槽，所述沉槽的长度与所述垫块的长度相等，所述沉槽水平贯穿垫块的前后表面，所述垫块压在所述待曝光铝基板的背面将所述待曝光铝基板和菲林片压紧，抽...
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