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本实用新型提供公开了一种离体组织灌流装置，包括离体组织灌流装置本体，所述本体为长方体，所述长方体的中间有四个阶梯式下降的开放凹槽，所述凹槽为长方形，由下到上依次为底槽、内槽、中槽、外槽；所述底槽两个短边各有一个固定的内管道连通到外部，两个内...
该专利属于上海市针灸经络研究所所有，仅供学习研究参考，未经过上海市针灸经络研究所授权不得商用。

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