温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种用于材料表面处理的阵列式等离子体装置，包括等离子体处理装置，高压驱动单元、输气单元、控制单元；所述等离子体处理装置内设有放电气体室，所述放电气体室一侧设置有气体通入口，所述放电气体室上部接高压板电极，下部连接地带孔板电极，接...
该专利属于西安理工大学;西安交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安理工大学;西安交通大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。