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本发明公开一种实现空穴局部钝化接触的方法，该方法可通过采用印刷硼浆或打印硼墨水实现选择性硼掺杂，也可通过选择性的硼离子注入来实现选择性硼掺杂，形成的局部掺硼多晶硅硼表面浓度不低于7E19cm...
该专利属于常州时创能源股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州时创能源股份有限公司授权不得商用。

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