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一种用于全芯片光源掩模优化的关键图形筛选方法，以主要频率的轮廓和距离阈值为准则设计了主要频率之间的覆盖规则，以关键图形数量最小为原则设计了关键图形筛选方法，实现了全芯片光源掩模优化关键图形筛选。本发明筛选出的关键图形数量更少，且利用本发明的...
该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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