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一种热处理系统包括以激光波长发射的激光辐射源、设置在反射表面和能容纳待处理衬底的衬底支架之间的光束投射光学装置、响应于高温计波长的高温计，以及波长响应光学元件，该光学元件具有用于在包括激光波长的第一波长范围内的光的第一光学路径，第一光学路径...
该专利属于应用材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料股份有限公司授权不得商用。

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