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本发明提供一种MICRO LED结构及其制作方法，包括如下步骤：1)提供生长基板；于生长基板表面形成半导体发光材料层；2)于芯片区域内的半导体发光材料层内形成环形沟槽；3)于环形沟槽的底部及侧壁形成电隔离层；4)于发光区域内的半导体发光材料...
该专利属于上海芯元基半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海芯元基半导体科技有限公司授权不得商用。

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