温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种基于贝叶斯优化的多层膜选择性辐射器构建方法及系统，包括：步骤S1：在单抛硅片上分别进行溅射；步骤S2：采用Denton多靶磁控溅射镀膜系统进行靶磁控溅射，所述Denton多靶磁控溅射镀膜系统能够溅射沉积复合薄膜；步骤S3：计...
该专利属于上海交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海交通大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。