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本发明涉及一种离子辐照系统及方法。所述系统包括真空腔室和横向梯度剂量控制装置，其中，所述真空腔室上设有离子束入射口；所述横向梯度剂量控制装置的一端伸入所述真空腔室，该一端用于固定待辐照样品，所述横向梯度剂量控制装置的轴线垂直所述离子束的入射...
该专利属于中国科学院近代物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院近代物理研究所授权不得商用。

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