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本发明在常规制备工艺上进行改进,提供一种铬涂层制备装置及方法。本发明的涂层制备装置中,样品固定在样品支撑体上,样品支撑体能够围绕其自身轴心旋转,同时随着样品转盘围绕样品转盘轴心公转,公转及自转的速度可分别独立控制;该装置能够保证涂层的均匀性...该专利属于中国工程物理研究院核物理与化学研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国工程物理研究院核物理与化学研究所授权不得商用。
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本发明在常规制备工艺上进行改进,提供一种铬涂层制备装置及方法。本发明的涂层制备装置中,样品固定在样品支撑体上,样品支撑体能够围绕其自身轴心旋转,同时随着样品转盘围绕样品转盘轴心公转,公转及自转的速度可分别独立控制;该装置能够保证涂层的均匀性...