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一种多层堆叠的LDMOS功率器件制造技术
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下载一种多层堆叠的LDMOS功率器件的技术资料
文档序号:25190145
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本发明公开一种多层堆叠的LDMOS功率器件,利用两个以上MOS器件单元堆叠所形成的双漂移区,而使得下方漂移区的顶部引入P重掺杂区和N重掺杂区,这样不仅增加一条新的电流路径,提升了开态时的工作电流;而且降低了下方漂移区栅漏两极的电场峰值,同时...
该专利属于桂林电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过桂林电子科技大学授权不得商用。
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