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本实用新型涉及镀膜设备领域，具体公开了一种水平立式磁控溅射镀膜设备，包括底架、主电控单元和依次设置在底架上的进出片区、等离子放电腔体、缓冲腔体和镀膜制程腔体；所述进出片区、等离子放电腔体和镀膜制程腔体内分别设置有导轨，所述导轨上设置有运载车...
该专利属于众鼎瑞展电子科技(深圳)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过众鼎瑞展电子科技(深圳)有限公司授权不得商用。

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