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成膜方法和半导体激光器制造方法技术
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文档序号:2511587
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光学膜厚测量方法和成膜方法是在基片上淀积多层膜时,把监测光照射到基片上,根据其反射强度的极值来测量膜厚。淀积的多层膜包括第1膜和第2膜,第1膜在规定波长范围内具有98%以上的反射率;第2膜在上述第1膜上形成并且在上述规定波长范围内具有100...
该专利属于精工爱普生株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过精工爱普生株式会社授权不得商用。
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