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本发明涉及硅片制造领域的一种硅片清洗装置及利用该装置进行清洗的清洗方法，所述清洗装置本体由若干组独立的清洗机构及配合清洗机构设置的烘干机构组成，若干组独立的清洗机构自进料口处到出料口依次按顺序排布设置，所述烘干机构设置在最后一道清洗机构的前...
该专利属于江苏晶科天晟能源有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏晶科天晟能源有限公司授权不得商用。

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