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本发明公开了一种确定性光学加工条件下频段误差分布特性的分析方法：１）采用光学检测装置得到被测光学元件加工后的面形误差数据；２）利用面形误差数据计算出ＰＳＤ曲线，根据ＰＳＤ曲线的极大值点确定光学加工误差的敏感频段；３）针对光学加工误差的分布特...
该专利属于中国人民解放军国防科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国人民解放军国防科学技术大学授权不得商用。

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