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本发明公开了一种图形结构的制造方法，包括步骤：步骤一、涂布光刻胶；步骤二、进行灰度曝光和显影形成光刻胶条形的具有高度逐渐变化的分布结构的光刻胶图形结构；步骤三、进行刻蚀将各光刻胶条形的高度逐渐变化的分布结构转移到各第一工艺层条形上；步骤四、...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

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