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本发明公开了一种横磁电极真空灭弧室,其属于真空灭弧室技术领域,包括屏蔽筒和设置于所述屏蔽筒内的两个触头,所述触头上开设有跑弧槽,所述跑弧槽的始端位于所述触头的中部区域,所述跑弧槽的末端位于所述触头的外周面上,所述跑弧槽呈阿基米德螺旋线延伸。...该专利属于陕西宝光真空电器股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过陕西宝光真空电器股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种横磁电极真空灭弧室,其属于真空灭弧室技术领域,包括屏蔽筒和设置于所述屏蔽筒内的两个触头,所述触头上开设有跑弧槽,所述跑弧槽的始端位于所述触头的中部区域,所述跑弧槽的末端位于所述触头的外周面上,所述跑弧槽呈阿基米德螺旋线延伸。...