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本发明涉及一种大速差低氮氧化物高速烧嘴，设有烧嘴砖，空、燃气进气管，烧嘴壳体，燃气喷管，预燃室和配风盘；烧嘴砖内腔为燃烧室；在燃气喷管的圆管壁周布有一次进风通道，燃气喷管出口处有预燃室，预燃室靠燃气喷管的端部圆周布有二次进风通道，预燃室出口...
该专利属于武汉科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉科技大学授权不得商用。

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