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在短波红外线内针对CMOS成像器的绝缘体上的锗制造技术
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下载在短波红外线内针对CMOS成像器的绝缘体上的锗的技术资料
文档序号:24950130
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本发明公开一种光检测结构,包含在一绝缘体上锗(GeOI)芯片的一器件层内形成的锗(Ge)光电二极管、基于所述锗光电二极管(PD)的多个焦平面阵列;以及公开一种制备所述锗光电二极管及焦平面阵列(FPA)的方法。一FPA包含结合至一ROIC的一...
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