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一种在分子尺度上原位测定低矿化度水驱过程的方法技术
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下载一种在分子尺度上原位测定低矿化度水驱过程的方法的技术资料
文档序号:24886650
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本发明公开了一种利用耗散型石英晶体微天平(QCM‑D)在分子尺度上原位在线模拟低矿化度水驱过程的方法。选用不同模型化合物对商用QCM‑D芯片进行改性修饰,用以模拟具有不同润湿性的岩石表面。选用C5Pe、Bisa等具有代表性的模型化合物模拟原...
该专利属于中国科学院化学研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院化学研究所授权不得商用。
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