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本发明涉及一种在过程设备上的传感器装置，该传感器装置包括至少两个传感器块，其中，每个传感器块包括可被布置在该过程设备上的支撑件和被布置在该支撑件上的多个传感器，该多个传感器用于确定在过程设备中发现的测量介质的物理或化学变量、测量介质的过程特...
该专利属于恩德斯+豪斯流量技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过恩德斯+豪斯流量技术股份有限公司授权不得商用。

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