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本实用新型涉及介质处理装置领域,具体公开了一种薄片类介质处理装置,包括机架和引导机构,机架内设有输送通道,机架上设有沿输送通道的宽度方向延伸的滑槽,引导机构包括引导件、第一传动件、第二传动件和限位件,引导件滑动插接于滑槽,用于限定薄片类介质...该专利属于山东新北洋信息技术股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过山东新北洋信息技术股份有限公司授权不得商用。
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本实用新型涉及介质处理装置领域,具体公开了一种薄片类介质处理装置,包括机架和引导机构,机架内设有输送通道,机架上设有沿输送通道的宽度方向延伸的滑槽,引导机构包括引导件、第一传动件、第二传动件和限位件,引导件滑动插接于滑槽,用于限定薄片类介质...