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一种基于轮廓表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法。所述方法利用轮廓表征掩模图形主要频率的特征，并基于主要频率的轮廓设计主要频率之间的覆盖规则、主要频率聚类方法和关键图形筛选方法，实现了全芯片光源掩模优化关键图形筛选。本发明包含计算掩模图...
该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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