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本发明提供一种光刻胶清洗液，包括：(a)醇胺；(b)硼酸及其衍生物；(c)苯并三氮唑及其衍生物；(d)水；(e)有机溶剂。本发明的光刻胶清洗液可有效地去除晶圆上的光阻残留物，同时对金属铝、铜、钛、钨、金、银、钼、ITO等基本无腐蚀，特别对金...
该专利属于安集微电子科技(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子科技(上海)股份有限公司授权不得商用。

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