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本发明提供了一种化学机械抛光液，包括二氧化硅研磨颗粒，腐蚀抑制剂，络合剂，氧化剂，和至少一种聚丙烯酸类阴离子表面活性剂，以及金属表面缺陷改善剂。本发明抛光液的优点在于：1)本发明的抛光液对铜的抛光速率高，对钽的抛光速率低，从而具有较高的铜/...
该专利属于安集微电子(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子(上海)有限公司授权不得商用。

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