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本发明提供一种乙酸在STI抛光中的用途。其中,所述乙酸与化学机械抛光液混合使用,所述化学机械抛光液包括氧化铈磨料,所述氧化铈磨料为胶体纳米氧化铈磨料。所述乙酸的浓度为25‑500ppm。所述抛光液的pH为4.5‑4.8,所述pH条件下,氧化...该专利属于安集微电子(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过安集微电子(上海)有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种乙酸在STI抛光中的用途。其中,所述乙酸与化学机械抛光液混合使用,所述化学机械抛光液包括氧化铈磨料,所述氧化铈磨料为胶体纳米氧化铈磨料。所述乙酸的浓度为25‑500ppm。所述抛光液的pH为4.5‑4.8,所述pH条件下,氧化...