温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

公开了一种用于热处理晶片（２８）的装置。此装置包括具有热源（２０）的加热室（１８）。冷却室（３２）邻近加热室设置，并包括冷却源（４０）。晶片保持器（３８）设置成可经过通道（５４）在冷却室与加热室之间运动，而一个或多个闸门（５２）限定了通道的...
该专利属于ASML美国公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML美国公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。