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本发明涉及光学材料技术领域，提供了一种多层共挤制备光学基片的方法以及一种光学基片。本发明提供的方法包括以下步骤：将发光层材料和保护层材料进行多层共挤成型，得到光学基片。本发明利用多层共挤技术制备光学基片，可以实现一次成型，工艺步骤简单，可大...
该专利属于马鞍山微晶光电材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过马鞍山微晶光电材料有限公司授权不得商用。

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