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本实用新型公开了一种高分子等离子表面真空镀膜设备，包括腔体、基板和坩埚，腔体底部的四角均固定连接有支撑腿，腔体的正面转动连接有密封门，腔体内壁两侧之间的底部固定连接有支撑板，支撑板的顶部固定连接有防护框，防护框内壁的两侧均固定连接有第一滑轨...
该专利属于成都市江泰真空镀膜科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都市江泰真空镀膜科技有限公司授权不得商用。

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