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本发明提供一种半导体湿式处理设备及离子液体栅极结构的制作方法，所述湿式处理设备包括：腔室；晶圆载盘，用以承载并旋转晶圆；处理液输入管路，用以提供处湿式处理所需的处理液；离子液体输入管路，用以提供制作离子液体栅极结构所需的离子液体；气液传输装...
该专利属于芯恩(青岛)集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芯恩(青岛)集成电路有限公司授权不得商用。

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