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一种晶粒高定向取向的镍铂合金溅射靶材及其制备方法技术
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下载一种晶粒高定向取向的镍铂合金溅射靶材及其制备方法的技术资料
文档序号:24598166
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本发明公开了一种晶粒高定向取向的镍铂合金溅射靶材及其制备方法,靶材含镍1~99 wt%,余量为铂;靶材呈(111)或(200)晶面高定向取向,含镍为1~24 wt%的靶材其(111)与(200)晶面积分强度比不低于3,含镍为25~99 wt...
该专利属于贵研铂业股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过贵研铂业股份有限公司授权不得商用。
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