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一种补充材料元件，所述补充材料元件被构造为可附接到造口术器具的底板上并且包括释放层，包括释放层的所述元件包括中和组分，所述中和组分被构造为响应于所述补充材料元件受到水分的影响而可从所述补充材料元件中释放。所述补充材料元件包括第一表面和第二表...
该专利属于科洛普拉斯特公司所有，仅供学习研究参考，未经过科洛普拉斯特公司授权不得商用。

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