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本申请公开了一种显色材料、滤光片及其制备方法，通过在酞菁染料分子结构上引入两亲性基团，提升了所述酞菁染料的显影能力，解决了酞菁染料在制备彩色滤光片过程中的残留问题；同时引入大空间位阻的取代基，防止分子之间的聚集，使所述显色材料保持有良好的溶...
该专利属于TCL华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过TCL华星光电技术有限公司授权不得商用。

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