温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种半导体元件及其制备方法。所述半导体元件包括电阻式存储器RRAM结构单元以及形成于所述RRAM结构单元的侧壁上的保护层；所述RRAM结构单元包括由下而上依次设置的底部电极、电介质层、以及顶部电极；所述保护层包括至少一层金属氧化...
该专利属于厦门半导体工业技术研发有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过厦门半导体工业技术研发有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。