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本发明提供一种埋型三栅极鳍型垂直栅结构及制作方法,位于外延层上的转移管以及该转移管一侧、外延层中的光电二极管;转移管的垂直栅伸入外延层中并延伸至光电二极管所在的深度;位于外延层上、转移管另一侧的复位管;该复位管栅极两侧的外延层中分别设有N+...该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种埋型三栅极鳍型垂直栅结构及制作方法,位于外延层上的转移管以及该转移管一侧、外延层中的光电二极管;转移管的垂直栅伸入外延层中并延伸至光电二极管所在的深度;位于外延层上、转移管另一侧的复位管;该复位管栅极两侧的外延层中分别设有N+...