下载阵列基板及其制备方法的技术资料

文档序号:24584464

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本申请提供一种阵列基板及其制备方法,所述阵列基板包括有源层,所述有源层包括氧化物半导体薄膜,所述氧化物半导体薄膜包括非晶相和晶相,在本申请中,所述有源层采用晶相和非晶相形成,提高了有源层的离子迁移率,并,降低了的能耗,从而提高了有源层的电学...
该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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