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一种基于机器学习进行逆向光刻解的最优特征向量设计方法，包括将设计目标图案划分为多个网格单元；根据成像条件计算特征函数集{Ki(x,y)},i＝1,2,…N1；建立神经网络模型，选取训练需包括的训练样本和验证样本；用特征函数集{Ki(x,y)...该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。
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一种基于机器学习进行逆向光刻解的最优特征向量设计方法，包括将设计目标图案划分为多个网格单元；根据成像条件计算特征函数集{Ki(x,y)},i＝1,2,…N1；建立神经网络模型，选取训练需包括的训练样本和验证样本；用特征函数集{Ki(x,y)...