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一种用水作制冷剂，用卤族化合物作吸收剂的吸收式制冷机，其特征在于厚度为０．０２－５．０ｍｍ的氧化膜形成在热交换器和高温再生器中的至少一个的表面上。以及一种用水作制冷剂，卤族化合物作吸收剂的吸收式制冷机的热交换器的生产方法，其特征在于在２００...
该专利属于株式会社日立制作所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社日立制作所授权不得商用。

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